三維納米結(jié)構(gòu)的制造對于傳感器、燃料電池中電極、催化劑載體、數(shù)據(jù)存儲等很多領(lǐng)域都十分重要。目前制造三維納米結(jié)構(gòu)的方法主要有膠體自組裝、高分子相分離、控制化學刻蝕等方法。雖然不同的技術(shù)對于生產(chǎn)特定的3D結(jié)構(gòu)是非常重要的，但是無人能提供一個全面的解決方案來制造三維納米結(jié)構(gòu)，這是由于各方法存在不同缺點，如形態(tài)中有限的適應(yīng)性、狹窄的應(yīng)用領(lǐng)域、復(fù)雜的實驗裝置等。
 
      最近，美國伊利諾斯大學的Shir等人開發(fā)了一種全新的三維納米制造技術(shù)用以避免以上問題的發(fā)生。此項技術(shù)是將柔軟、具有彈性的亞波長掩模以幾何學上的等角方式與一定厚度且透明的光敏材料相接觸，然后進行單、多光子曝光實現(xiàn)的，這種方法被稱之為鄰近納米模版法（PnP）。其典型工藝為將透明的感光固體薄膜固定到感光底層之上，然后把彈性體掩模置于薄膜之上，并在原子尺度上進行緊密的等角接觸，透過光通過掩模在光敏薄膜內(nèi)部產(chǎn)生了復(fù)雜的光強分布，最后將光敏材料洗掉，從而得到了三維納米結(jié)構(gòu)。
 
      相關(guān)論文發(fā)表在《物理化學B輯》（The Journal of Physical Chemistry B）上。